6030　イオンプレーティング

電界を印加して発生したプラズマを利用し、蒸発原子を
イオン化又は励起させ、基板上に薄膜を形成する成膜法。

ion plating

引用元：JIS 金属表面処理　2023

イオンプレーティングとは、イオン化した金属を被加工物に
蒸着させる表面処理のこと。

引用元：Wikipedia

イオンプレーティングは、物理蒸着法の一種で、真空中で金属などの
材料を蒸発させ、基板上に薄膜を形成する技術。
従来の真空蒸着法と異なり、蒸発された材料に電荷を与え、イオン化
することで、基板への密着性や膜質を向上させている。

イオンプレーティングの特徴
・高い密着性: イオン化された材料は、基板に高速で衝突するため、
従来の真空蒸着法よりも密着性の高い膜を形成することができる。
・硬質な膜: イオン化された材料は、基板表面にエネルギーを与え、
緻密な膜を形成するため、硬質で耐摩耗性の高い膜を形成することができる。
・低温処理: イオン化された材料は、基板表面にエネルギーを与えるため、
低温で処理することができ、熱に弱い基板にも適用できる。
・幅広い材料: 金属だけでなく、セラミックや半導体材料など、様々な
材料を薄膜化することができる。

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