756　写像性

陽極酸化皮膜表面に像を写したときの像の鮮明さ又は
ゆがみの程度を表す皮膜表面の性質。

image clarity

引用元：JIS 金属表面処理　2023

以下の要素が写像性に影響を与える。

・表面粗度: 表面粗度が低いほど、光が散乱しにくくなり、
　写像性が向上する。
・皮膜の厚さ: 皮膜が厚すぎると、光が透過しにくくなり、
　写像性が低下する。
・皮膜の結晶構造: 皮膜の結晶構造が規則正しいほど、光が
　回折しにくくなり、写像性が向上する。
・皮膜の光学特性: 皮膜の屈折率や吸収係数が低いほど、光が
　吸収されにくくなり、写像性が向上する。

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